一、主要特點
    主要用于半導體硅晶片檢測、LCD液晶屏檢測、實驗室材料分析及其他精密工程檢測領域，可對樣品進行明場及簡易偏光觀察。
二、儀器介紹　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
1）系統采用無限遠色差正光學、長工作距，成像清晰、像面平坦
2）配備反射式柯拉照明系統，為不同倍率的物鏡提供均勻充足的照明
3）正像三通觀察筒，30°傾斜，極大的提高了觀察的舒適性與操作的適應性
4）配備了4”帶離合器機械平臺，行程105*105mm，可快速移動
5）人機學設計，高剛性鏡臂，“Y”型底座，調焦機構采用前置式操作控制，粗微調同軸
6）光源采用寬電壓數字調光技術，具有光強設定與復位功能
7）可選配攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、干涉濾光片、測微尺等附件，拓展應用領域
三、技術參數
    光學系統: 無限遠色差校正光學系統
    物鏡: 無限遠長工作距金相物鏡 5X、10X、20X、50X、80X、
    目鏡: 高眼點平場目鏡，PL10X，線視場φ22mm
    高眼點平場目鏡，PL15X，線視場φ16mm
    觀察筒: 正像，鉸鏈式三目，30°傾斜，分光比：雙目100%，三目100%
    照明系統: 反射式柯拉照明，帶簡易偏光接口，12V/100W鹵素燈，，帶針孔光闌
    調焦機構: 粗微調同軸，帶粗調上限位、松緊調節裝置和隨機限位裝置
    粗調行程：33mm（焦后1mm），微調精度：0.001mm
    zui大樣品高度：32mm
    物鏡轉換器: 內定位、內傾式、五孔、明場長工作距離物鏡轉換器
    載物臺:4英寸矩形，機械移動平臺230mmX215mm，移動行程：105mmX105mm
   低位同軸調節，可快速移動
   機架: 全新的人機工程學設計，高剛性鏡臂，“Y”型底座，前置式操作控制

四：選購附件: 攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、干涉濾光片、測微尺等